Sumitomo Electric Industries, Ltd. (Kantor pusat: Chuo-ku, Osaka, Presiden: Osamu Inoue, selanjutnya disebut "perusahaan kami") telah mengembangkan dan meluncurkan grade baru carbide coating AC9115T/AC9125T, mewujudkan masa pakai produk yang lebih lama dalam pembubutan aloi titanium. Produk ini diluncurkan ke pasaran mulai Januari 2025.

Aloi titanium adalah bahan yang ringan dan kuat sekaligus tahan korosi sehingga banyak dipakai dalam industri pesawat terbang. Aloi titanium juga memiliki biokompatibilitas yang tinggi, membuatnya makin sering digunakan untuk peralatan medis. Beberapa tahun belakangan, industri tersebut berkembang makin pesat sehingga mendorong meningkatnya permintaan atas alat yang dapat digunakan dalam pemesinan aloi titanium setiap tahunnya.

Beberapa masalah yang sering ditemui sebelumnya terkait pemesinan aloi titanium, di antaranya, adhesi yang disebabkan reaksi kimia dengan alat dan aus pemesinan yang diakibatkan oleh konduktivitas yang rendah terhadap panas. Akibatnya, masa pakai alat pun berkurang. Merespons hal ini, perusahaan kami mengembangkan dan meluncurkan grade baru Carbide Coating, yaitu AC9115T dan AC9125T, lengkap dengan resistensi aus yang baik sehingga optimal untuk pembubutan aloi titanium.

Grade Carbide Coating untuk Pembubutan Aloi Titanium AC9115T/AC9125T

1. Fitur

Penggunaan teknologi pelapisan PVD* AbsotechTM kami dalam AC9115T/AC9125T, sekaligus komposisi berbasis WC (Carbide tungsten) yang pertama dalam industri, dapat menekan reaksi kimia dengan aloi titanium, serta secara drastis meningkatkan resistensi terhadap aus. Dengan ini, kami mewujudkan masa pakai yang lama untuk pembubutan aloi titanium dan berperan besar dalam meningkatkan produktivitas serta memangkas biaya.

2. Jajaran Produk

Insert: Total 165 No. Kat.
*AC9115T: 92 No. Kat., AC9125T: 73 No. Kat.

3. Rencana Penjualan

40 juta JPY/tahun pada tahun pertama; 180 juta JPY/tahun setelah 3 tahun

4. Harga Standar

1.240 hingga 4.520 JPY (tidak termasuk pajak)/satuan

* PVD (Physical Vapour Deposition/Deposisi Uap Fisik)
Metode pelapisan yang mendeposisikan lapisan fisik tipis di permukaan material target dalam fase uap.